Pulbere de nano alumină

Pulberea de nano alumină produsă de compania noastră are un punct de topire de 2050 ° și un punct de fierbere de 2980 °. Este utilizat pe scară largă în acoperiri rezistente la uzură și acoperiri cu plasmă, care pot spori rezistența la uzură a acoperirilor, le pot face mai durabile, facilitează fluxul și îmbunătățesc rata de acoperire cu pulbere. În acoperirile din oțel bobine, pulberea noastră de nano alumină poate servi și ca agent de protecție împotriva căldurii și radiațiilor, oferind o protecție completă pentru oțel și prelungind durata de viață a acestuia; Poate fi folosit și pentru măcinarea bioceramicelor și a ceramicii din alumină, a catalizatorilor de înaltă eficiență, a materialelor optice, a materialelor de lustruire de precizie și a plachetelor de siliciu monocristalin. Nanoalumina, cu proprietățile sale excelente de protecție și lipire, asigură stabilitatea și fiabilitatea produselor din domeniul tuburilor fluorescente și becurilor; În plus, nano-alumina este utilizată ca material de acoperire în domeniul hârtiei de imprimare cu jet de cerneală de înaltă calitate, care poate dota hârtiei cu luciu ridicat și calitate excelentă a imprimării, făcând textul și imaginile imprimate mai clare. Nanoalumina poate, de asemenea, să îmbunătățească curgerea pulberii, să îmbunătățească încărcarea pozitivă a pulberii de tip frecare și, astfel, să îmbunătățească performanța de acoperire a acoperirilor cu pulbere folosind metoda de frecare electrostatică, aducând o nouă descoperire tehnologiei moderne de acoperire.

Compania noastră produce pulbere de nano alumină cu punct de topire ridicat, stabilitate chimică ridicată și proprietăți dielectrice, duritate ridicată, rezistență bună la uzură și cost redus. Pulverizarea pulberii de nano alumină pe suprafața metalelor, ceramicii, materialelor plastice și a altor materiale poate îmbunătăți semnificativ rezistența suprafeței, rezistența la uzură și rezistența la coroziune. Nanoalumina are o izolare electrică excelentă, durabilitate chimică, rezistență la căldură, rezistență puternică la radiații, constantă dielectrică ridicată și o suprafață plană și uniformă. Poate fi folosit ca material substrat pentru materiale semiconductoare și circuite integrate la scară largă și este utilizat pe scară largă în industria microelectronică, electronică și informațională.